|
Система ионного утонения Leica RES102
Установка Leica EM RES102 предназначена для ионной полировки образцов как для сканирующей, так и для просвечивающей электронной микроскопии. Установка Leica EM RES102 оборудована двумя источниками ионов с седловидной формой поля, обеспечивающими переменную энергию частиц и высокую производительность установки при полировании образцов.
Год, фирма-изготовитель, страна-изготовитель: 2019, Leica Microsystems GmbH, Германия
Технические характеристики: Диапазон напряжений – 0,8-10 кВ Диапазон углов – от -45 до +45° Максимальные размеры образцов: СЭМ – максимальный диаметр 25 мм, высота 6 мм под торец – максимальная высота 5 мм, толщина 3 мм, длина 15 мм ПЭМ – минимальная толщина 50 мкм, максимальный диаметр 14 мм, диаметр травления 3 мм и 2,3 мм.
|