Система ионного утонения Leica RES102

res102

Система ионного утонения Leica RES102

Установка Leica EM RES102 предназначена для ионной полировки образцов как для сканирующей, так и для просвечивающей электронной микроскопии. Установка Leica EM RES102 оборудована двумя источниками ионов с седловидной формой поля, обеспечивающими переменную энергию частиц и высокую производительность установки при полировании образцов.

Год, фирма-изготовитель, страна-изготовитель: 2019, Leica Microsystems GmbH, Германия

Технические характеристики:
Диапазон напряжений – 0,8-10 кВ
Диапазон углов – от -45 до +45°
Максимальные размеры образцов:
СЭМ – максимальный диаметр 25 мм, высота 6 мм
под торец – максимальная высота 5 мм, толщина 3 мм, длина  15 мм
ПЭМ – минимальная толщина 50 мкм, максимальный диаметр 14 мм, диаметр травления 3 мм и 2,3 мм.