Сколтех — новый технологический университет, созданный в 2011 году в Москве командой российских и зарубежных профессоров с мировым именем. Здесь преподают действующие ученые, студентам дана свобода в выборе дисциплин, обучение включает работу над собственным исследовательским проектом, стажировку в индустрии, предпринимательскую подготовку и постоянное нахождение в международной среде.

Материалы с ультранизкой диэлектрической проницаемостью для межсоединений в СБИС

Ключевые слова: СБИС, межсоединения, диэлектрик, ультранизкая диэлектрическая проницаемость, нанокомпозит

Применение: Межсоединения в СБИС, межслойные диэлектрики

Проблематика:

Индустрии современных сверхбольших интегральных схем (СБИС) требуются материалы с всё более низкой диэлектрической проницаемостью. Хотя современные диэлектрики характеризуются диэлектрической проницаемостью на уровне 2.5, материалы с показателем k < 2 всё больше востребованы промышленностью.

Технология:

Разработан новый диэлектрический материал с ультранизкой диэлектрической проницаемостью, являющийся комбинацией пористых неорганических наночастиц и высокофторированных полимеров. Данная комбинация позволила получить материалы с диэлектрической проницаемостью менее 2. Данный материал может наноситься из жидкой фазы посредством спинкоатинга и является совместимым с современным процессом производства СБИС. Немаловажным преимуществом данного материала являются высокая механическая и термическая стабильность, низкая скорость диффузии меди, а также высокие значения напряжения пробоя и низкие токи утечки. В случае промышленного применения новый диэлектрический материал позволит сделать следующие шаги в миниатюризации СБИС и может быть использован в техпроцессах менее 12 нм.

Преимущества:

  • Ультранизкая диэлектрическая проницаемость
  • Лёгкость нанесения – посредством спинкоатинга
  • Низкая стоимость
  • Высокая механическая и термическая стабильность
  • Низкий тангенс угла диэлектрических потерь
  • Низкая скорость диффузии меди

Разработчики:

Интеллектуальная собственность:

  • Патентная заявка PCT: PCT/RU2013/001172

Публикации:

  1. Mukhamed Keshtov, Ernest Said-Galiev, Vitaliy Kochurov and Alexei Khokhlov / New polyimide-polyoxometalate nanocomposite materials with nanoporous structure and ultra-low dielectric constant, formed in supercritical carbon dioxide / AIP Conf. Proc. 1459, 277 (2012); http://dx.doi.org/10.1063/1.4738468
  2. Mukhamed Keshtov, Ernest Said-Galiev and Alexei Khokhlov / Development of new polymers with ultra-low dielectric constant using gaseous CO2 / AIP Conf. Proc. 1459 , 157 (2012) ; http://dx.doi.org/10.1063/1.4738429

Назад к списку технологий >>

Если Вас заинтересовала данная технология, пожалуйста, обратитесь к сотрудникам ОТЗ для обсуждения перспектив лицензирования или научной кооперации.